幸运飞艇

相关文章
    暂时没有信息
产品展示
当前位置:首页 > 全部产品 > HMDS真空烤箱 >
  • EHMDSHMDS真空烤箱

    在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺显得更为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这

    查看详细介绍
共 1 条记录,当前 1 / 1 页  首页  上一页  下一页  末页  跳转到第页 
友情链接:旺旺彩票  全民彩票  吉利彩票  金砖彩票  全民彩票  全民彩票官网  吉利彩票  金砖彩票  金砖彩票官网  金砖彩票  
扫一扫访问手机站扫一扫访问手机站
访问手机站

免责声明: 本站资料及图片来源互联网文章,本网不承担任何由内容信息所引起的争议和法律责任。所有作品版权归原创作者所有,与本站立场无关,如用户分享不慎侵犯了您的权益,请联系我们告知,我们将做删除处理!